外媒再次传来好消息!国产光刻机取得庞大技能突破:已到达14nm制程 ...

雨乐雨欣

原标题：外媒再次传来好消息!国产光刻机取得庞大技能突破:已到达14nm制程

【5月17日讯】信赖各人都知道，自从复兴、华为等国内三百多家科技企业被列入到“实体清单”以后，也让国内许多科技企业、消耗者纷纷开始熟悉到，发展属于我们自主可控的国产芯片、国产体系的紧张性，尤其是在国产芯片范畴，由于我国的芯片制造技能存在许多技能短板，直接导致我国的芯片财产链得不到高端芯片制造技能的支持，从而让许多国产芯片公司所计划出来的芯片，无法发挥出任何作用，只可以或许成为又看“PPT”产物，而现在国内芯片制造技能在半导体质料、装备以及人才储备方面，都另有很大的提拔空间，此中高端EUV光刻机，更是成为了限定国内芯片制造企业，迈向高端芯片制造范畴的绊脚石，由于想要生产7nm EUV、5nm等高端工艺制程芯片产物，就离不开高端EUV光刻机装备支持，而在环球范围内，只有荷兰ASML公司可以或许生产制造EUV光刻机装备。

现在我国已经订定了国产芯片自给率的发展目的，想要在2025年实现70%国产芯片自给率目的，那么就必要大量提拔国内芯片制造本领以及产能，这也意味着在将来几年时间内，我们将会用上大量的光刻机装备，用于提拔芯片制造程度以及芯片产能，但我们现在国内芯片制造企业，不停都严峻依靠于外国光刻机装备，以是想要实现70%自给率小目的，无疑发展国产光刻机装备也成为主要目的，那么现在国产光刻机装备程度到底怎样呢？是否可以支持我们的国产芯片完成70%自给率的小目的呢？

现在国内气力最强的光刻机厂商是上海微电子，而在2020年6月份，上海微电子披露了一份消息，将会在2021年-2022年期间，正式对交际付一台28nm制程工艺浸润式光刻机装备，接纳的光源为第四代的ArF，波长为193nm，这也意味着我国的光刻机装备将会从90nm工艺期间迈入到28nm工艺期间。

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但就在克日，上海微电子方面再次传来了好消息，那就是我国的光刻机将会迈入到14nm工艺制程期间，而此前中芯国际就把握了14nm制程工艺芯片量产技能，这也意味着我国的芯片财产链将会到达14nm工艺水准，完全不必要依靠外国技能大概是装备，固然间隔高端7nm、5nm工艺芯片技能，另有着较大的技能差距；

而且根据日本经济消息网报道，在对我国20多家半导体厂商举行采访观察，此中上海微电子更是直接回应：“现在公司的支柱产物仍旧是生产90nm工艺芯片的光刻机，而用于生产28nm，14nm工艺芯片的光刻机，在制品率上另有肯定的提拔空间。”

我们从上海微电子官方正式回应来看， 我们的国产28nm工艺光刻机、14nm工艺光刻机已经造出来了，固然在生产14nm芯片良率方面另有待提拔，但信赖随着我国浩繁科研职员的积极，国产光刻机肯定可以取得更大的技能突破，让我国的芯片制造财产可以或许摆脱被“卡脖子”的威胁，让我们的国产芯片可以或许拥有更大的市场以及发展空间，完成我们所定下的70%国产芯片自给率目的；

固然最为锋利的国产半导体装备厂商，大概照旧要数中国唯一的蚀刻机巨头—中微半导体，现在已经把握了5nm工艺芯片蚀刻机技能，正式跻身于高端行列，以是在越来越多国产芯片厂商传来好消息以后，信赖我们的国产芯片肯定可以攻克更多的焦点技能，让国产芯片也可以或许站在天下舞台之上。

末了：针对上海微电子的官方说辞，对于国产28nm工艺、14nm工艺光刻机装备，各位小同伴们，你们对此都有什么样的见解和意见呢？接待在批评区中留言讨论，等待你们的出色批评！返回搜狐，检察更多

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